太阳光谱选择性吸收涂层的沉积方法
一种太阳光谱选择性吸收涂层的沉积方法，为将基体放置在真空溅射室内，以金属或硅为靶材，使吸收层溅射靶溅射出金属或硅，在真空溅射室内通入反应气体，使金属或硅及其与反应气体生成的反应物的混合物沉积在基体表面，形成吸收层，吸收层厚度为：100-150nm 优点是吸收比高、发射比低、沉积速率快，生产效率高。
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